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10.3969/j.issn.1004-4507.2009.04.003

微波等离子体刻蚀技术研究

引用
以Coria1200M型干法刻蚀机的三种刻蚀模式为基础,分析了微波等离子体刻蚀技术的优缺点,并讨论了下电极结构对干法刻蚀形貌、一致性和重复性的影响.利用微波等离子体刻蚀技术与反应离子刻蚀技术相结合,实现了SiO2各向同性刻蚀,成功应用于质量控制和失效分析等环节.

高密度等离子体微波干法刻蚀失效分析

38

TN305.7(半导体技术)

2009-05-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

13-18

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1004-4507

62-1077/TN

38

2009,38(4)

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