先进的工艺流程控制拓展电化学机械抛光工艺相容性

摘要：

电化学机械抛光与化学机械抛光工艺相比提供了更大的控制能力,而一个多区的阴极允许对圆片内部均匀性进行精确的控制.马拉松式运行展现了在保持工艺规程同时具有扩展设备消耗性部件使用期限的能力.一种终点算法可以

关键词：工艺控制、化学机械抛光、电化学机械抛光、片内均匀性、终点算法

所属期刊栏目：37

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2008-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：24-27,32