10.3969/j.issn.1004-4507.2005.11.010
下一代光刻技术
介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技术优势、技术难点以及研发,并展望了这几种光刻技术的前景.
下一代光刻技术、浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术、无掩模光刻技术
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TN305.7(半导体技术)
2005-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
27-33
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10.3969/j.issn.1004-4507.2005.11.010
下一代光刻技术、浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术、无掩模光刻技术
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TN305.7(半导体技术)
2005-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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