适用于沉积工艺的真空技术
半导体生产中的薄膜沉积工艺通常对真空泵的要求很严格.在该工艺中高故障和停机现象较为普遍.iH真空泵是特别为应付恶劣的薄膜工艺环境所设计.阐述了iH系列在干泵在LPCVK氮化硅工艺应用中的成功表现.
沉积、工艺、真空技术、干泵
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TN304.55(半导体技术)
2004-07-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
15-17
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沉积、工艺、真空技术、干泵
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TN304.55(半导体技术)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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