10.3969/j.issn.1004-4507.2003.02.012
用于MEMS加工的双面深度光刻机对准系统设计
比较了光刻机中几种常用的对准方式,并分析了其优缺点,在此基础上对双面深度光刻机底面对准系统的设计原理、结构及对准过程做了详细阐述,并进行了对准系统的精度分析,最后介绍了为系统实现所采取的其他技术措施.实践证明,该对准系统应用于深紫外双面深度光刻机中,系统运行稳定、可靠,完全能满足系统的精度要求.
MEMS、底面对准、对准精度、掩模、样片
32
TN305.7(半导体技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
36-39,55