10.16257/j.cnki.1681-1070.2022.0404
基于硅外延片用石墨基座的温度均匀性研究
通过对电磁感应加热的硅外延化学气相沉积反应腔室建立理论分析模型,结合工程实验对比,研究了不同石墨材料和不同基座结构对基座表面温度均匀性的影响.结果显示,在工程中,选择合适的石墨材料、设计合适的基座结构对硅外延片电阻率均匀性有着很大的影响,但在提升产品质量的同时也要平衡经济效益.
电磁感应、石墨基座、石墨材料、基座结构、电阻率均匀性
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TN305(半导体技术)
2022-05-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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