10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1113
集成电路掩模分辨率增强技术
随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要.介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法.
掩模、分辨率增强技术、相移掩模、光学邻近效应修正、光源掩模协同优化
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TN305.7(半导体技术)
2020-12-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1113
掩模、分辨率增强技术、相移掩模、光学邻近效应修正、光源掩模协同优化
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TN305.7(半导体技术)
2020-12-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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