掩模干法蚀刻参数的优化研究

摘要：

文中主要介绍了等离子干法蚀刻工艺的原理和主要的蚀刻参数.采用正交实验的方式,对影响蚀刻速率、蚀刻均匀性以及选择比的蚀刻参数进行分析和优化,最终确定最佳工艺参数,使掩模条宽均匀性提高近3nm.

关键词：干法蚀刻、掩模、蚀刻参数、优化

所属期刊栏目：20

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2020-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：62-65