10.16257/j.cnki.1681-1070.2019.0711
高频双极晶体管工艺特性研究
高频双极晶体管由于具有高频、电流放大等特性,已广泛应用到放大器电路、电动机、高频雷达、航空航天工程等领域.对目前典型的高频双极晶体管制作工艺进行了分析与探讨,重点研究了制作工艺中的难点,包括集电极深N阱工艺、多晶硅刻蚀工艺、多晶硅发射极工艺.设计并试制了工程样品,对于关键工艺对器件结构及参数的影响进行了详细的研究,可为实际的生产制造提供理论指导.
高频双极晶体管、集电极深N阱、多晶硅刻蚀、多晶发射极
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TN305.7(半导体技术)
2019-08-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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