一种提高掩模条宽(CD)性能方法的研究

摘要：

提出了一种提高相移掩模(PSM)条宽偏差(CD MTT,mean to target)精度的方法.在掩模制备过程中,条宽偏差的影响因素很多,基板材质、图形以及工艺过程均会对CD MTT产生影响.研究中提出了减小掩模工艺过程中CD MTT的方法,通过对相移层蚀刻前金属层CD进行测量,评估计算对金属层进行加蚀刻,实现对PSM掩模最终CD MTT的控制.同时确定了图形密度对CDMTT的影响,有效地提高了PSM掩模条宽性能.

关键词：相移掩模、条宽偏差、条宽偏差控制、干法蚀刻

所属期刊栏目：18

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2018-10-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：42-44,48