SADP工艺中一类特殊二维图形的分解处理
自对准双重图型(SADP)技术广泛应用于28 nm以下节点逻辑电路制造工艺和存储器制造工艺.与其他双重图形技术(LELE,LPLE)相比,在处理二维图形分解时,SADP面临更复杂的要求.针对一种简单的二维图形,介绍了3种图形分解方法,可以有效改善线宽和对准工艺窗口.
自对准双重图形、二维图形、图形分解、工艺窗口
17
TN305.7(半导体技术)
2017-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
40-42,47
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自对准双重图形、二维图形、图形分解、工艺窗口
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TN305.7(半导体技术)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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