溅射设备腔室处理工艺的优化研究

摘要：

对溅射原理进行了详细的分析,对溅射设备的结构组成进行了概括性的说明.研究了溅射腔室的传统工艺处理流程,并提出了新的工艺处理流程.实验表明,新的工艺流程更加省时省力,效果上也更好,应用于实际中,带来了一定的经济效益.

关键词：溅射设备、腔室处理、溅射工艺、工艺优化

所属期刊栏目：16

分类号：TN305.92(半导体技术)

在线出版日期：2016-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：45-47