10.3969/j.issn.1681-1070.2015.08.008
具有单层浮空场板的高压LDMOS器件研究
通过器件仿真软件Silvaco对带单层浮空场板的高压LDMOS(Lateral Double-diffused MOSFET)器件进行了设计与优化。仿真结果表明:对于击穿电压为600 V的RESURF(reduced surface field)LDMOS器件,场板能够有效地优化器件表面电势分布,降低电场峰值,提高器件的击穿电压。其中场板的数量、长度等参数对高压RESURF-LDMOS器件的耐压有较大影响。并且场板结构增加了double RESURF器件P-top剂量的容差范围,影响了器件的导通电阻。
LDMOS、浮空场板、RESURF
TN321+.3(半导体技术)
2015-09-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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