分离栅式快闪存储器擦除性能的工艺优化

摘要：

随着电子产品的普及，分离栅式快闪存储器作为闪存的一种，由于具有高效的编程速度以及能够完全避免过擦除的能力，无论是在单体还是在嵌入式产品方面都得到了人们更多的关注。随着闪存市场高集成度的发展需求，分离栅式快闪存储器的尺寸也在逐渐地缩小。从结构和工艺优化方面探讨在这一微缩过程中，如何有效提高分离栅式快闪存储器的擦除效率。通过实验发现通过形成非对称性浮栅结构，优化浮栅到擦除栅侧的结构形貌，可以显著改进分离栅式工艺快闪存储器的擦除性能。

关键词：分离栅式快闪存储器、擦除性能、浮栅、擦除栅、突出角

分类号：TN303(半导体技术)

在线出版日期：2014-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：41-44