LTCC单膜层内置腔制造技术

摘要：

LTCC单膜层内置腔在电容式传感器、微流系统等领域有重要应用，是3D-LTCC在微系统领域应用的典型结构类型。首先论述了目前实现内置腔制造的主流技术--牺牲层技术，并结合实验点明了该技术的关键难点。之后，提出了一种LTCC内置腔制造的新方法，并结合实验验证了该方法的可行性。新方法比牺牲层方法简便，更适合于高平整度腔膜层内置腔结构制造。

关键词：低温共烧陶瓷、单膜层内置腔、制造、平整度

分类号：TN304.055(半导体技术)

在线出版日期：2014-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：37-40