PECVD制程中C3F8替代C2F6的研究

摘要：

研究表明含氟气体的性质决定了原子氟（F）的转化效率，通常在CxFy气体中x的值越大，氟（F）的转化效率也就会越高。所以C3F8（八氟丙烷）比C2F6（乙氟烷）具有更高的利用效率，更少的PFC（全氟化物）的排放。文章主要研究在以四乙氧基硅烷（TOES）为基础的离子增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD）的清洗制程中，利用分解效率高的C3F8气体取代C2F6气体。通过实验设计（Design Of Experiment，DOE），调整腔体压力、射频（RF）功率、气体流量等参数，最终得到最优化的新清洗配方。应用到实际的量产中，有效地降低了成本，减少了PFC的排放。

关键词：C2F6、C3F8、全氟化物

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2014-03-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：38-40