SiGeC薄膜表征对于光刻对准性能的影响研究

摘要：

Si1-x-yGexCy是继Si和GaAs之后又一重要的半导体材料.由于Si1-x-yGexCy具有优于纯Si材料的良好特性,器件和制程又可与Si工艺兼容,采用Si1-x-yGexC及其Si1-x-yGexCy/Si异质结所制作出来的器件如异质结双极晶体管(Heterojunction Bipolar Transistor,HBT),其电性能几乎可达到GaAs等化合物半导体制作的同类器件的水平,而且在成本上低于GaAs HBT.因此Si1-x-yGexCy可能是未来微电子发展进程中必不可少、并起着关键作用的一种材料.文章对Si1-x-yGexCy薄膜的表征进行了探索,在总结大量数据的基础上,验证了利用Si1-x-yGexCy薄膜的反射率进行光学表征的方法的可行性.同时,文章系统研究了Si1-x-yGexCy薄膜的工艺条件、薄膜成份、薄膜厚度等参数对光刻对准性能的影响.

关键词：Si1-x-yGexCy、光学表征对准性能、HBT异质结双极晶体管

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2013-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：32-35