净化厂房中气相分子沾污(AMC)的来源和危害

摘要：

越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC).随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成品率,并会影响净化厂房内工作人员的身体健康.文章介绍了AMC的分类、来源、危害性、控制标准和方法,希望以此引起人们对AMC的重视,并采取相应的控制措施.

关键词：净化厂房、空气中分子污染物、酸性分子污染物、碱性分子污染物、可凝结的分子有机化合物、分子掺杂物

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2013-01-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：44-48