后端工艺的N型欧姆接触

摘要：

文章首先从原理上较为全面地阐述了欧姆接触形成的必要条件和广泛应用,其次主要针对工艺生产过程中产生的多种n＋欧姆接触不良情况进行了汇总分析并提供了相应解决方案。提出了等离子损伤对欧姆接触电阻有较大影响并对此进行实验对比验证。伴随着现代工艺的不断发展进步,欧姆接触电阻将会在电路设计应用中越来越受到重视并发挥重大作用。

关键词：欧姆接触、PLASMA、台阶覆盖

所属期刊栏目：12

分类号：TN45(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2012-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：33-35,40