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10.3969/j.issn.1681-1070.2012.01.006

长波InAsSb材料的结构特性研究

引用
用熔体外延(ME)法在InAs衬底上生长了InAsSb外延层,用扫描电子显微镜(SEM)观察了样品的横截面,并测量出外延层的厚度达到100μm,用X-射线衍射(XRD)谱研究了InAsSb外延层的结构性质。测量结果表明,InAs/InAs0.023Sbo1977单晶具有相当完美的晶体取向结构及良好的结晶质量,这可能得益于100ktm的外延层厚度基本消除了外延层与衬底之间晶格失配的影响。电子探针微分析(EPMA)测量的元素分布图像显示,Sb(锑)元素在外延层中的分布相当均匀。

InAsSb、熔体外延、结构性质、组分分布

12

TN304(半导体技术)

2012-05-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

14-16,24

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1681-1070

32-1709/TN

12

2012,12(1)

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