干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响

摘要：

在VLSI制造过程中,静电吸盘(ESC)以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中.文章以LAM Research公司TCP9400等离子刻蚀机在多晶硅刻蚀的生产实践为例,分析了这种双极性静电吸盘(bipolar-ESC)的结构特点和其工作原理,并逐一分析了在其使用过程中各参数补偿电压、夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响,并提出了对生产过程的监控参数,以达到及时发现问题、解决问题的目的.

关键词：静电吸盘、双极性、夹持电压、偏压补偿、冷却气体

所属期刊栏目：9

分类号：TN306(半导体技术)

在线出版日期：2009-05-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：32-35