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10.3969/j.issn.1681-1070.2008.08.010

亚微米BiCMOS电路纵向NPN管的ESD保护研究

引用
文章以0.6 μm N外延BiCMOS工艺为基础,研究了纵向NPN管的ESD保护行为,并对不同版图结构的纵向NPN管进行了ESD行为研究.实验表明,由于基区的内在电阻不一样,在该工艺条件下,CEB、CEBE结构比CBE、CBEB结构SNAPBACK效应明显,机器模式下ESD保护能力强.此外,还研究了兼容低压Vz工艺,单级保护NMOS输出管的纵向NPN器件的ESD行为,流片显示采用EB结齐纳击穿的纵向NPN能有效单级保护CMOS的输出级.

ESD保护、纵向NPN、亚微米BiCMOS

8

TN433(微电子学、集成电路(IC))

江苏省自然科学基金BK2007026

2008-11-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

39-43

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1681-1070

32-1709/TN

8

2008,8(8)

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