"场发花"现象研究

摘要：

随着半导体技术的不断发展,特征尺寸也不断缩小,光刻对条宽的控制能力在整个半导体技术中显得十分重要,而场发花现象对光刻来说是个较为严重的质量问题,它严重影响了光刻对条宽的控制能力,同时还造成硅片的大量返工,使生产成本增加、产量降低,也使生产的圆片质量可靠性受到置疑.文章对造成场发花现象的原因,场发花造成的影响以及如何避免场发花现象做了一定的解释.

关键词：场发花、工艺窗口、化学机械抛光

所属期刊栏目：7

分类号：TN306(半导体技术)

在线出版日期：2008-04-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：38-41