10.3969/j.issn.1681-1070.2006.11.010
TM-1201溅射台及其工艺的完善
引进的俄罗斯TM-1201溅射台,经过在生产过程中结合现状不断革新改进、工艺技术上精雕细啄,从而使该设备长期保持良好的运行状态.薄膜的质量、膜厚均匀性也得到显著提高,并能满足1 000MHz器件(铝条间隔0.58μm)对镀膜提出的质量要求.
溅射台、薄膜、均匀性、冷凝泵
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TN451(微电子学、集成电路(IC))
2006-12-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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