光掩模现状与展望

摘要：

0.09μm工艺用掩模在国外进入批量生产,0.065μm对应掩模成为研发重点,新一代电子束投影曝光技术、低加速电压电子线等倍接近曝光技术、超紫外线曝光技术的候补技术光掩模的研究与开发已成为备受关注的课题.国内光掩模制造业仅能够满足国内中低档产品市场的要求.

关键词：掩模技术、掩模市场、掩模展望

所属期刊栏目：6

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2006-08-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：8-11