10.3969/j.issn.1681-1070.2004.02.012
高精度电阻、电容形成技术
本文介绍了几种集成电路物工艺中高精度电阻和电容的制作方法.
掺杂、扩散、注入、溅射
4
TN305.2(半导体技术)
2005-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
50-53,5
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10.3969/j.issn.1681-1070.2004.02.012
掺杂、扩散、注入、溅射
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TN305.2(半导体技术)
2005-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
50-53,5
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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