10.3969/j.issn.1681-1070.2003.05.014
0.13μm工艺与248nm KrF光刻机
ITRS规划2001年实现0.13μm工艺.实际上2001年0.13μm工艺已达量产.0.13μm工艺包括248nm光刻技术、高k绝缘材料、低k绝缘材料和铜互连技术等新技术.248nm光刻技术是实现0.13μm工艺达到量产的最关键技术,为此,必须采用248nmKrFstepper(准分子激光扫描分步投影光刻机).
0.13μm工艺、248nmKrF光刻机、高k/低k绝缘材料、铜互连
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TN305(半导体技术)
2005-09-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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