10.3969/j.issn.1681-1070.2002.02.010
深亚微米工艺用二次纯水系统
本文介绍了深亚微米工艺用二次超纯水系统主要工艺流程及其各部分的作用.比较了一次纯水电阻率,二次纯水电阻率及二次纯水TOC含量的相互关系.讨论了半导体集成电路制造工艺对超纯水的水质要求以及水中杂质对半导体工艺的影响.
深亚微米、一次纯水、二次纯水
2
TN305.97(半导体技术)
2005-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
38-44
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10.3969/j.issn.1681-1070.2002.02.010
深亚微米、一次纯水、二次纯水
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TN305.97(半导体技术)
2005-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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