浅析半导体硅片的超声和兆声清洗技术

摘要：

本文主要介绍的是有关半导体硅片生产过程中的超声和兆声清洗技术应用，并对两种清洗技术当中的运行原理与特征等进行了详细阐述。并在此基础上综合研究存在问题与解决对策，分析两者技术之间的差异性。希望能够对进一步提升清洗技术发展起到促进作用。

关键词：硅片、清洗、超声、兆声

分类号：TN3;X1

在线出版日期：2015-07-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：151-152,146