绘图品质媲美电子束绘图机Micronic超越镭射绘图精度极限

摘要：

@@ 现代科技一路向前急驰,带给人们更多超越想象的享受与便利之外,也在半导体制造厂商的头上高悬了一把达摩克利斯之剑.电子产品轻薄小巧的趋势以及价格竞争的压力推动半导体制程朝向纳米时代迈进,目前90纳米尚未全面普及应用,已有厂商试水65纳米、甚至更尖端的45纳米.芯片制造犹如拓印,故而线宽的尺寸又跟掩膜版的精度息息相关,可以说图形精准的掩膜版是半导体制程微细化需要攻克的第一道难题.作为专业镭射图形描绘机的厂商,Micronic致力于提供贴合半导体制程前进步伐的绘图机台,帮助客户获得高精度的掩膜版.

机标关键词：绘图机、品质、电子束、镭射、半导体、掩膜版、体制、纳米时代、制造厂商、芯片制造、图形、客户获得、高精度、价格竞争、电子产品、微细化、专业、应用、压力、线宽

分类号：TN2;TM9

在线出版日期：2007-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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