10.3969/j.issn.1000-8519.2004.02.001
193纳米微影湿浸式技术暂居较佳发展位置
@@ 微影工艺技术在IC制造中一直扮演着举足轻重的角色,随着IC产品技术需求的提升,微影技术也需不断地提高分辨率以制作更微小的特征尺寸(feature size).
纳米、技术需求、特征尺寸、工艺技术、高分辨率、制作、制造、提升、角色、产品
TS9;TP3
2007-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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纳米、技术需求、特征尺寸、工艺技术、高分辨率、制作、制造、提升、角色、产品
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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