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10.3969/j.issn.1672-5468.2008.03.003

新型NBL改善LDMOS器件的ESD性能

引用
介绍了几种常见的N型埋藏层(NBL)静电放电(ESD)器件,阐述了NBL对ESD的影响,提出了新结构的NBL器件(Under-source NBL).比较Under-source NBL器件和其它常用器件的优缺点,对比了它和传统器件的ESD测试数据;结果表明,Under-source NBL器件在横向扩散MOS(LDMOS)ESD保护电路中有着非常好的效果,可以在功能相当的情况下.大大节省器件的面积.

互补型金属氧化物晶体管、埋藏层、静电放电、横向扩散

26

TN386.1(半导体技术)

2008-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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1672-5468

44-1412/TN

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2008,26(3)

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