精磨光学元件面形的干涉检测技术研究

摘要：

为解决传统接触式检测方法检测精磨光学元件效率低，精度差的问题，提出了一种采用干涉检测技术对精磨光学元件面形进行测量方法，该方法具有非接触，测量效率高，误差小的特点。干涉检测中干涉条纹的对比度与工作波长成正比，与表面粗糙度成反比，干涉条纹对比度直接影响最终的检测结果。因此首先分析干涉条纹对比度与精磨表面粗糙度之间的关系，证明采用可见光干涉仪对精磨粗糙表面进行检测的可行性，并对利用GPI型数字干涉仪检测精磨粗糙表面进行了实验验证，检测面形结果约为PV 1．5μm，并与红外干涉仪以及接触式轮廓仪测量结果进行了对比，验证结果有效性。最后给出了当粗糙度阈值Rq 优于150 nm时，可采用该方法进行检测，具有较高的实用价值。

关键词：精磨检测、光学元件、干涉检测

分类号：TP96;TN29

资助基金：国家科技重大专项支持2009ZX02205项目

在线出版日期：2015-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：558-562