基于二元模型的电阻抗成像方法

摘要：

建立了一种双模型电阻抗成像系统，旨在解决一元模型电阻抗成像系统中耗时较多的问题。基于精细化三维圆柱体模型进行电阻抗正问题分析，采用粗梳三维圆柱体模型进行逆问题求解。在双模型成像系统中，基于稀疏矩阵建立映射公式实现粗疏有限元单元和精细有限元单元的匹配和转换。通过计算机仿真，在该系统中运用基于修正的Laplace Guass‐New ton重建算法可以得到相应的阻抗重建图像，实验结果验证了双模型系统的正确性和可行性。

关键词：三维阻抗成像、二元模型、正问题、逆问题

所属期刊栏目：39

分类号：TP806+.1(远动技术)

在线出版日期：2016-08-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：58-61