电子屏蔽罩支架平面度超差原因分析及控制

摘要：

屏蔽罩支架是屏蔽罩的重要组成部分,为解决屏蔽罩支架产品的平面度超差问题,对其产生原因和工艺优化进行了分析.首先,采用数值模拟技术,探讨了顶料力、压边及压边力和板料工艺结构等因素对屏蔽罩支架成形质量的影响,结果表明,增大顶料力、添加压边圈并全拉深、增加压边力、改进工艺结构有利于抑制该薄板冲压件的翘曲倾向.然后,根据影响因素设计了优化方案并最终通过实物实验,发现在精冲结束后增加一道过压量为0.01 mm的过压整形工序,以及更改引伸工序前面板料工艺结构为C型的优化方案有利于抑制翘曲,同时采用两种优化方案可以将平面度从0.6～0.8 mm减小至0.3～0.5 mm.

关键词：屏蔽罩支架、平面度、回弹、翘曲、精冲

所属期刊栏目：47

分类号：TG355.83(金属压力加工)

资助基金：四川大学-泸州市人民政府战略合作科技创新研发项目2021CDLZ-3

在线出版日期：2022-12-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：109-115