10.14139/j.cnki.cn22-1228.2018.01.014
不同方法测量铜薄膜厚度的比较
利用磁致溅射方法在玻璃基片上沉积不同厚度的铜膜.利用台阶仪、反射光谱法、四探针电阻法分别测量铜薄膜的形状膜厚、光学膜厚、电阻膜厚.总结了三种方法的测量精度、测量范围和局限性.
铜薄膜、形状膜厚、光学膜厚、电阻膜厚
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O4-33
2018-04-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
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铜薄膜、形状膜厚、光学膜厚、电阻膜厚
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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