10.3969/j.issn.1007-2934.2010.02.002
磁控溅射薄膜沉积速率的标定
在不同的溅射功率和溅射时间下,使用磁控溅射设备制备了系列薄膜Si/Fe(P1w,T1s)和Si/[Fe(P2w,T2s)/NiO(P3w,T3s)]10.利用小角X射线衍射测量了样品的衍射强度分布,并分别计算出了Fe和NiO在不同溅射功率下的沉积速率.实验结果表明,在测量范围内沉积速率与溅射功率之间存在线性关系.
磁控溅射、小角X射线衍射、沉积速率
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O484.32(固体物理学)
2010-06-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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