10.3969/j.issn.1007-2934.2007.03.003
激光诱导晶化技术制备纳米硅的研究
利用电子束蒸发技术在硅衬底上镀一层2.5 μm厚的含氢非晶硅薄膜,用氩离子激光器的488nm谱线作激发光线,对a-Si-H薄膜进行辐照,使a-Si-H晶化.其拉曼散射谱和电子衍射谱的结果表明,经激光辐照后,在a-Si-H薄膜中形成纳米硅粒.
薄膜、激光、纳米硅
20
O4-33;TN304.2
2007-12-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
11-13
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10.3969/j.issn.1007-2934.2007.03.003
薄膜、激光、纳米硅
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O4-33;TN304.2
2007-12-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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