10.3969/j.issn.1007-2934.2004.02.009
直流磁控溅射镀膜实验条件的选择
介绍一台改制的直流以磁控溅射镀膜机用于溅射镀膜实验,选择实验条件,观察实验现象,得到多层薄膜.
溅射镀膜、辉光放电、多层薄膜
17
O485(固体物理学)
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
25-27
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10.3969/j.issn.1007-2934.2004.02.009
溅射镀膜、辉光放电、多层薄膜
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O485(固体物理学)
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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