10.3969/j.issn.1007-7804.2023.02.003
电子特气在低温干法刻蚀中的应用与发展
介绍了低温干法刻蚀技术的技术原理、应用和进展,探讨了不同刻蚀气体和工艺参数对低温干法刻蚀工艺的影响.
低温干法刻蚀、反应离子刻蚀、电子特气
41
TN305.7;TN405.982(半导体技术)
2023-05-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
11-16
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10.3969/j.issn.1007-7804.2023.02.003
低温干法刻蚀、反应离子刻蚀、电子特气
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TN305.7;TN405.982(半导体技术)
2023-05-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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