10.3969/j.issn.1001-7100.2008.05.010
直流反应溅射法制备Y2O3隔离层的研究
采用直流反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备出了Y2O3 隔离层, 并研究了基带温度与H2O分压两个因素对Y2O3薄膜的织构取向以及表面形貌的影响.X射线衍射(XRD)结果和扫描电子显微镜(SEM)的分析表明,在温度为760℃,H2O分压为1.68×10-2Pa的条件下制备出的Y2O3薄膜具有强立方织构,平面内Φ扫描半高宽为7.07°,其表面均匀、致密、无裂纹.
氧化钇、隔离层、直流反应溅射、涂层导体
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O48;TN3
2008-07-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
38-41,46