10.3969/j.issn.1001-7100.2003.04.010
高温超导平面电路光刻工艺
在研究了传统光刻工艺的基础上,针对高温超导平面电路自身对工艺的要求,结合高温超导薄膜的特点,提出了几点工艺方法上的改进,解决了传统光刻工艺中存在的几个问题.实验结果表明,这种新的工艺方法不仅增加了高温超导平面电路制备工艺的稳定性,而且提高了样品的可重复性.
高温超导、平面电路、光刻
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O52(高压与高温物理学)
2007-04-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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