CaIrO3薄膜中的八面体扭转及金属绝缘转变

摘要：

本文采用激光脉冲沉积 (pulsed laser deposition, PLD) 方法在NdGaO3 (110) (NGO) 和 (LaAlO3) 0.3 (Sr2AlTaO6) 0.7 (001) (LSAT) 衬底上生长了厚度变化的钙钛矿结构CaIrO3 (CIO) 单晶薄膜.在这一体系中, 我们观测到了金属绝缘转变现象以及各向异性电输运行为, 并且尝试利用应变弛豫调节铱氧八面体绕[100]轴的扭转角度, 改变金属绝缘转变温度 (TMI).八面体的扭转角度在30nm厚的样品中取得了最大值, 同时CIO的TMI取得了最小值.我们推测是八面体的扭转影响了CIO薄膜的带隙宽度, 从而造成了TMI的变化以及各向异性电输运行为.

关键词：5d电子金属氧化物薄膜、金属绝缘转变、八面体扭转

所属期刊栏目：40

分类号：TM221;O469;TB383

在线出版日期：2018-08-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：6-11