不同气氛下LaMnO3缓冲层后退火效应研究
在第二代高温涂层导体离子束辅助沉积技术(IBAD)路线中,LaMnO3 (LMO)作为超导层的生长面,直接影响到YBCO的性能,为改善LMO的织构、形貌等,对磁控溅射法制备的LMO薄膜进行了后退火处理,本实验系统研究了后退火处理对LMO物相、织构、表面形貌等的影响,并进一步研究了后退火效应对超导层的影响.结果表明后退火处理有助于改善LMO表面形貌,优化LMO微结构,在潮湿Ar-5％ H2气氛下,LMO缓冲层改善率最高,在经湿Ar-5％ H2后退火处理的LMO缓冲层上制备的超导层具有最佳的性能,在77 K自场下,临界电流密度达到1.2 MA/cm2.
LaMnO3、后退火、潮湿Ar-5、H2、涂层导体
39
X70;TQ5
上海大学高温超导重点实验室14DZ2260700内完成,上海市科学技术委员会16521108400,16DZ0504300 and 14521102800;国家自然科学基金51572165 and 11174193;重点项目2016YFF0101701资助的课题
2017-11-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共6页
21-26
