MgB2/Ta多层膜的制备及性质

摘要：

本文应用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al2 O3基底上制备MgB2/Ta多层膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对MgB2/Ta试样的表面形貌、晶体结构、超导特性及断面结构进行了测量研究.结果表明MgB2/Ta多层膜结构清晰,超导薄膜显示出良好的超导特性.

关键词：MgB2超导薄膜、钽薄膜、多层膜、混合物理化学气相沉积法、磁控溅射技术

所属期刊栏目：38

分类号：TB383;O627.81;TM263

在线出版日期：2017-07-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：65-68