耐熔微掩膜法制备高温超导Josephson结

摘要：

在超导Josephson结的制备过程中,传统的成结方式为对超导薄膜进行化学刻蚀或离子刻蚀,以形成特定图形的结.而刻蚀这一步常常会给结的性能带来负面影响,从而直接导致超导器件性能的下降.本文介绍了一种利用耐融微掩模制备高温超导Josephson结的方法.本方法的特点是:一次成结无需后期刻蚀,利用此方法可以避免刻蚀工艺对超导器件性能的影响,制备高质量的高温超导Josephson结. 本文给出利用此方法制备高温超导YBCO/YSZ双晶结的有关工艺,以及初步的实验结果.

关键词：Josephson结、耐熔微掩模、双晶结

所属期刊栏目：25

分类号：O4(物理学)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划G19990646;国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2003-09-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：188-192