铁电/超导集成膜和铁电多层膜的TEM研究

摘要：

报道了用透射电子显微镜对单层YBCO薄膜,PZT/YBCO集成薄膜,STO/GBCO集成薄膜和STO/BTO超晶格薄膜等四种有代表性的薄膜样品的研究结果.在单层YBCO平面样品中观察到镶嵌,在生长在YBCO/STO上面生长的PZT薄膜中,观察到柱状结构.用PLD方法生长的STO/GBCO,YSZ集成薄膜中缺陷很少.虽然GBCO膜的表面并不平整,但仍能生长出c取向的GBCO薄膜.用MBE方法生长的STO/BTO多层膜具有很好的外延特征.由于晶格匹配和层状生长机制所以具有锐的界面.这些结果对改进铁电超导集成薄膜和多层膜制备工艺是有用的.

机标关键词：电超导、集成膜、铁电多层膜、ELECTRON MICROSCOPY、集成薄膜、透射电子显微镜、超晶格薄膜、柱状结构、制备工艺、薄膜样品、外延特征、生长机制、晶格匹配、方法、单层、镶嵌、缺陷、取向、平面、界面

所属期刊栏目：21

分类号：O48(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：54-58