用激光分子束外延的YBCO薄膜制备高稳定性DC-SQUID

摘要：

利用激光分子束外延法在高约250nm的STO台阶衬底和36.8°双晶衬底上外延厚度为200～230nm的YBCO超导薄膜,用常规的光刻工艺制出DC-SQUID图形.器件进入超导态后,正常态电阻不随温度改变.在恒定偏流,77K温度下,磁通白噪声为2.0×10-4Φ0/Hz.经过40次室温与液氮温度间循环后,观察不到任何性能的改变.

机标关键词：激光分子束、分子束外延、薄膜制备、液氮温度、正常态电阻、温度改变、外延厚度、光刻工艺、衬底、超导薄膜、外延法、超导态、白噪声、循环、性能、图形、室温、器件、恒定、磁通

所属期刊栏目：21

分类号：O48(固体物理学)

资助基金：国家超导技术联合研究开发中心资助项目

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：13-16