低电离层调制激励VLF/ELF辐射参数优化理论分析

摘要：

针对低电离层幅度调制加热过程中甚低频/极低频(VLF/ELF)激发效率较低的问题,该文利用低电离层调制加热模型分析方波幅度调制加热过程中占空比和加热频率对VLF/ELF辐射效率的影响,在此基础上获得最大VLF/ELF辐射效率下的优化占空比和加热频率选择范围.研究表明,随着调制波占空比的增大,激发的VLF/ELF等效辐射源强度先增大后减小,占空比的优化范围为40％～70％;随着加热频率的增大,激发的VLF/ELF等效辐射源强度先增大后减小,加热频率的优化范围为(0.8～0.9)倍低电离层临界频率.

关键词：幅度调制加热、参数优化、占空比、加热频率

所属期刊栏目：61

分类号：P352(空间物理)

资助基金：中国电科技术创新基金A171601C01

在线出版日期：2018-05-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：477-483