透明导电氧化物AZO薄膜的制备与性能研究
利用直流磁控溅射法,采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材,在普通载玻片上制备了AZO (ZnO:Al)薄膜。采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采用分光光度计和四探针法对薄膜的光电学性能进行了测试。结果表明:控制好工艺参数可以制备出致密、均匀并具有良好的光电性能的AZO薄膜;并计算了带隙能量和折射率。
磁控溅射、电阻率、透过率、AZO、薄膜
TP391(计算技术、计算机技术)
2014-05-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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